HiPace? 300，具有 TC 400，DN 100 ISO-K，普發渦輪分子泵

渦輪分子泵——真空泵中的領導者

真空技術的應用，使大量高科技產品走入人們的日常生活。事實上，在研發和工業領域的大量應用都需要極低的絕對壓力，即高真空環境。得名于渦輪機系列產品，渦輪分子泵代表著全球領先的技術標準。轉速高達 90,000 rpm 的高速轉子能產生應用所需的壓力條件，從而產生在高真空和超高真空范圍內的高達 10-11 mbar 的真空度。

普發真空渦輪分子泵代表著安全的性能

現代渦輪分子泵能獲得超過 400 米/每秒的圓周速度。這將轉化為相應的高轉子動能，當轉子和定子相觸，動能將在瞬間傳輸到外殼和泵的底座上。因此，泵外殼的穩定性具有至關重要的作用，需經過理論和實際的雙重檢驗。普發真空的渦輪分子泵已通過UL 61010和/或Semi S2認證。除機械安全性能外，該認證同時也包括了防火和轉速過高的雙重保護，這向認證是由普發真空與TüV Rheinland共同開創的。

優化客戶利益

真空對于整個生產流程成功與否往往起著決定性作用。一旦出現缺陷批次或者生產失敗，根據用途不同，造成的損失高達數百萬歐元。因此，所有安裝部件具有較高可靠性變得越來越重要。如今，渦輪泵的工作時間常高達十萬小時以上。在這段時間內，應盡可能減少由于維護或服務作業而造成的計劃內中斷。該泵具有可以在現場更換軸承或機油的特點。結合該特點，使其具有極高的可用性。渦輪內置有集成驅動電子設備，從而顯著降低了電纜支出。較先進的驅動技術將能耗降至較低，控制方案也多種多樣。符合防護等級 IP 54 的結構使該泵特別適合于工業用途。結構形式緊湊，即使在狹窄空間，依然可以安裝使用。為了保持低成本，可以為同一尺寸的泵選擇不同的驅動電子設備 可以為同一尺寸的泵選擇不同的驅動電子設備。重量方面也在持續改進：一臺抽速達 250 l/s 的渦輪泵，其重量僅為 6 kg。普發真空渦輪泵廣泛的應用領域不僅涵蓋分析儀器、真空處理和半導體技術，還包括涂層、科研和工業用途。

應用

在很多產品制造和工藝研究領域中，真空技術發揮著決定性的作用。渦輪分子泵對于制造極純工藝條件具有至關重要的作用。
 

應用范圍覆蓋多個領域：

分析儀器（質譜分析法、顯微鏡等）

半導體行業（電子組件、集成電路、太陽能電池等）

光學/玻璃行業（隔熱保護、防反射、反射、濾光鏡鍍膜等）

真空鍍膜技術*（表面保護、裝飾土層、顯示技術、屏幕等）

真空冶金（真空焊接、真空燒結、真空合金、真空爐等）

泄漏檢測（真空系統、機車燃料箱、安全氣囊、真空包裝行業）

科研設施（核粒子物理學、核聚變研究、激光應用等）

燈具行業（燈具生產等）

HiPace? 300

具有 260 l/s 對于 N2 抽吸能力的緊湊、高性能渦輪泵

產品描述

配有不同驅動電子系統

防護類型 IP54 適合于工業用途

準 S2 和 UL/CSA 認證

緊湊結構的較高可靠性

運行數據監控形成的較高運行安全性

渦輪分子泵入門套件

易于安裝、快速應用和運行

較佳匹配的組件，真正的“即插即用”

標準

對于所有氣體的高抽吸能力和極高壓縮

適合所有標準應用

高密封性

壓縮能力極強，極適用于輕氣體

適用于生成超高真空

方法

工藝過程適宜，耐灰塵

理想適用于涂層及半導體工藝以及諸如電子束焊接裝置等易受灰塵影響的工業應用

Plus

適用于高要求分析設備、例如電子顯微鏡

極微振動

雜散磁場低

HiPace? 300，具有 TC 400，DN 100 ISO-K

理想用于分析和工業應用

用于在所有情況下的安裝

帶有集成型水冷系統以保證較大氣體流量

通過使用較多 4 個配件實現使用多樣性

理想適用于快速循環

廣泛的配件擴展使用范圍

具有較高 260 l/s 對于 N2 抽吸能力的堅固、高性能渦輪泵

集成型驅動電子設備 TC 400